Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem:
http://repositorio.ugto.mx/handle/20.500.12059/14027| Título: | Proceso para la producción de tetraetoxisilano vía tetracloruro de silicio en un equipo de reacción-separación |
| Autor: | JUAN GABRIEL SEGOVIA HERNANDEZ |
| ID del Autor: | info:eu-repo/dai/mx/cvu/121601 |
| Resumen: | La presente invención se refiere a un proceso de obtención y purificación de tetraetoxisilano a las purezas que requiera el operario. Particularmente, se refiere al desarrollo de la tecnología para la producción de tetraetoxisilano basada en una estrategia de unión de equipos, a través del uso de una columna de destilación reactiva. |
| Fecha de publicación: | 9-ene-2025 |
| Editorial: | Universidad de Guanajuato |
| Licencia: | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0 |
| URI: | http://repositorio.ugto.mx/handle/20.500.12059/14027 |
| Idioma: | spa |
| Aparece en las colecciones: | Patentes |
Archivos en este ítem:
| Archivo | Descripción | Tamaño | Formato | |
|---|---|---|---|---|
| MX_W_2025_000994.pdf | 8.74 MB | Adobe PDF | Visualizar/Abrir |
Los ítems de DSpace están protegidos por copyright, con todos los derechos reservados, a menos que se indique lo contrario.

